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中硅（山東）硅鋁新材料有限公司經過多年的科研攻關，已經攻克氣相法（CVD工藝）批量生產高純超細碳化硅粉的技術障礙，生產出的碳化硅微粉，屬3C相β型，純度達到3N-5N；顆粒均勻，粒徑主要分布在450-750nm，形態呈球狀；硅碳摩爾比近似1：1；因其在高濃度的氬氣和氫氣環境下生成，顆粒內部無氧。這種粉料是生產高端碳化硅器件的原料，器件在半導體制造工藝裝備中都有廣泛應用，如：研磨拋光吸盤、光刻吸盤、檢測吸盤、精密運動平臺、蝕刻環節的高純碳化硅部件、封裝檢測環節中精密運動系統等，其次，光伏硅生產用的碳化硅槳也用到這種高純超細碳化硅粉。

產品推薦1：碳化硅粉

1.技術參數

3C相?型，純度3N-5N，顆粒度450-750nm

2.性能特點 

高純、高細

3.應用領域

高純碳化硅器件燒結