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鄒小姐：13326633089 -
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德中（天津）精密裝備有限公司，是一家以半導體、陶瓷薄膜電路加工技術、設備為核心，開發、生產以晶圓、陶瓷、鐵氧體等為基材的清洗、電鍍、化學鍍、化學蝕刻等濕法加工設備，如：晶圓凸點化學鍍Ni/Pd/Au(UBM)設備、超聲波清洗設備、電鍍設備、光刻膠顯影、除膠設備等。硬件技術、軟件技術、應用經驗，是德中的技術基礎，將三者有機結合，綜合運用，使德中精密裝備走上了守中報一的發展之路。德中精密裝備的設備，擁有“竅門軟件化，工藝經驗產品化”的特色，憑借工藝經驗、質量、環境、柔性、多功能五個方面的優勢，不斷地滿足高端制造業和前沿研發活動對材料精密加工、微細加工日益增長的需求。
展出精品推薦1:德中CS系列 超聲/兆聲清洗設備
1.產品要點：
28KHz-1MHz頻率可選，擁有掃頻、多頻分時段清洗、多頻率同時清洗等先進清洗技術，基板清洗更徹底；
2.性能特點：
陶瓷、鐵氧體、玻璃、藍寶石、硅片是常見的電子器件基板材料，德中CS系列的超聲波/兆聲波清洗設備可在PVD、PCVD前，對這些基板進行清潔處理，確保基板表面潔凈無污染，確保金屬鍍層與基體的結合力。超聲、兆聲、PVDF槽、水晶槽、不銹鋼槽、QDR水洗、溢流水洗、脫水等可根據客戶要求定制。
德中超聲清洗設備可集成如下清洗工藝：
— 強酸浸泡清洗；
— 有機溶劑超聲清洗，如丙酮、酒精等；
— 超聲酸洗功能；
— 超聲堿洗功能；
— 水洗：如QDR快排水洗，溢流水洗等；
— 清洗液在線加熱、N2在線加熱等；
— 有機溶劑揮發檢測、防火/滅火裝置；
— 清洗槽與線外桶直接循環，新舊藥液自動更替，24H生產。
德中超聲清洗設備其他功能：
— 清洗液自動配置、排放、補加、更換功能;
— 溶液溫度、處理時間程序化控制；
槽體材質：PVDF\PTFE\PPH\不銹鋼304-316等
展出精品推薦2：德中TP系列 電鍍/電鍍填孔設備
1.產品要點：
采用獨特的射流技術，鍍層均勻性好，效率高，適合銅、鎳、金、銀、錫等多種金屬電鍍，同時適合晶圓凸點、陶瓷填孔電鍍；
2.產品介紹：
德中TP350/450/650系列電鍍設備，采用獨特的夾具設計，適合陶瓷、鐵氧體、玻璃等電子基板在PVD/PCVD后進行表面電鍍金屬加厚，液適合晶圓凸點電鍍。可電鍍銅、鎳、金、錫、銀等各種金屬；對于不同的金屬鍍層，厚度從0.5μm到300μm均可實現；軟件提示半自動操作、行車全自動運行等操作模式，均可根據客戶需求定制；直流電鍍、直流脈沖電鍍、反向脈沖電鍍可選。
該設備采用獨特的射流技術進行電鍍，工件作為陰極，浸泡在電鍍液中的同時，電鍍溶液從左、右兩側強力噴射向陰極，該設備也適合在陶瓷、硅片等基板上進行填孔電鍍。射流電鍍技術的優勢：
n 陰極、陽極間離子交換速度更快，整槽內離子濃度更加均勻，完全消除濃差極化；
n 電流密度更高，電鍍效率可提高30-40%；
n 孔內溶液交換快，適合小孔、微孔、盲孔等板厚/孔徑比大的基板電鍍，表面和孔內鍍層厚度更趨一致；
n 基板前后擺動，配合獨特的噴射結構，整個基板表面、所有基板孔的噴射效果均勻、一致；
n 電鍍厚度均勻性＜ 10%；
n 可兩面施加相同或不同的電鍍電流，兩面鍍層厚度一致或不同；
n 電鍍液噴射流量可調，噴射系統距離陰極距離可調，適合陶瓷、HDI板等基板的填孔電鍍。
展出精品推薦3：德中EU系列 化學蝕刻設備
1.產品要點：
垂直噴淋技術、浸泡+溢流+拋動技術。多種蝕刻方式，適合不同厚度金屬膜層。完全避免“水池效應”，精度高，側蝕小，一致性好；
2.產品介紹：
一.噴淋蝕刻設備：EU450V
EU450V是一款垂直、噴淋、往復傳動蝕刻設備，基板專用夾具帶動陶瓷，垂直進入蝕刻區，被霧化的蝕刻液從前、后兩側同時噴淋腐蝕，再經過水洗、風干，完成蝕刻；
n 兩面同時蝕刻，兩面效果均勻一致；
n 非接觸、無阻擋式化學蝕刻設備，整個蝕刻過程傳動機構與陶瓷無物理接觸，對光刻膠、精細線路無損傷；
n 強力噴淋有利打破精細線路的“微觀水池效應”，更加適合精細線路蝕刻；
n 蝕刻液與基板接觸發生蝕刻反應后，由于自身重力自動脫離基板表面，完全避免了水平上蝕刻中的“水池效應”，整板蝕刻效果一致，精度高，側蝕小；
蝕刻方式分兩種：
—直接蝕刻：基板進入蝕刻區前，蝕刻液噴淋，基板直接穿過蝕刻區；
—往復蝕刻：基板進入蝕刻區前蝕刻液不噴淋，當基板進入并停止在蝕刻倉中間，基板開始在蝕刻倉內左右擺動，同時蝕刻液開始噴淋。蝕刻時間可以很短，也可以很長，非常適合超厚金屬蝕刻；
n 既能針對超薄金屬的蝕刻，又能蝕刻超厚金屬，小身材，大用處；
n 配置適合陶瓷、FPC、微波電路板的專業夾具，適合多種應用；
占地小，投資回報率高。
展出精品推薦４：德中DU系列 光刻膠顯影設備
1.產品要點：
浸泡+溢流+拋動、浸泡+旋轉技術可選。多種方式，適合多種光刻膠顯影；
2.產品介紹：
浸泡+拋動+溢流 顯影設備：DU350/450/650
基板放置在顯影盒中（與蝕刻盒通用），采用浸泡+溶液自下而上溢流+基板拋動方式進行蝕刻，適合多種光刻膠顯影，如TMAOH、NaOH等。
陶瓷、玻璃、晶圓等基板被固定在裝載夾具上，基板可以是圓形，也可以是方形，2英寸-8英寸均適用。裝載夾具浸泡在蝕刻溶液中，顯影液自上而下涌動、溢流，基板拋動。其特點是：
n 顯影液在基板表面充分交換，保證新鮮的蝕刻液與金屬膜層發生蝕刻反應，每片基片、基片上每點蝕刻速度一致；
n 基片裝載夾具、槽體，均可采用316L/PTFE材質；
n 一臺設備中可配置多個顯影槽，配合水洗槽，可大大提高生產效率；
n 顯影槽設計有自動槽蓋（選項），減少藥液揮發；
n 顯影槽底部設計有均流板，通過均流板顯影液上涌，顯影槽采周溢流方式，通過管路與線外桶連接；
n 不工作時顯影液可存儲在線外桶內，防止顯影液遭受污染；
n 顯影液的更換更加簡單，直接更換線外桶即可；
n 可在不停產狀態下更換顯影液，實現7×24H連續生產；
n 藥液涌動的流速、壓力可調，確保均勻一致的顯影效果；
n 拋動行程可調，確保均勻一致的顯影效果；
n 設備槽體、管路、閥門全部采用適合高純液體的材質和部件，確保不會污染工件；
n 可生成生產日志，所有工件的工藝參數均可記憶、導出、備查，也可實現遠程監控功能；
n 全自動設備、軟件提示手動操作均可，適合不同的客戶需求。
展出精品推薦5：德中SU系列 光刻膠除膠設備
1.產品要點：
浸泡+溢流+拋動、浸泡+旋轉技術可選。多種方式，適合多種光刻膠除膠；
2.產品介紹：
浸泡+拋動+溢流 除膠設備：SU350/450/650
基板放置在清洗盒中（與蝕刻盒通用），采用浸泡+溶液自下而上溢流+基板拋動方式進行除膠，適合多種除膠液，如丙酮、NaOH等。如用丙酮除膠，一般采用二步除膠法，以便能徹底干凈地將感光膠去除，工藝流程如下：
陶瓷、玻璃、晶圓等基板被固定在裝載夾具上，基板可以是圓形，也可以是方形，2英寸-8英寸均適用。裝載夾具浸泡在除膠溶液中，除膠液自上而下涌動、溢流，基板拋動。其特點是：
n 除膠液在基板表面充分交換，保證新鮮的除膠液與基板接觸；
n 基片裝載夾具、槽體，均可采用316L不銹鋼加電解拋光處理；
n 一臺設備中可配置2個除膠槽，配合水洗槽，可大大提高生產效率；
n 除膠槽設計有自動槽蓋（選項），減少藥液揮發；
n 除膠槽底部設計有均流板，通過均流板除膠液上涌，除膠槽采周溢流方式，通過管路與線外桶連接；
n 不工作時除膠液可存儲在線外桶內，防止除膠液遭受污染，也防止除膠液的揮發；
n 除膠液的更換更加簡單，直接更換線外桶即可；
n 可在不停產狀態下更換除膠液，實現7×24H連續生產；
n 藥液涌動的流速、壓力可調，確保均勻一致的除膠效果；
n 拋動行程可調，確保均勻一致的除膠效果；
n 設備內部安裝有機物揮發濃度傳感器，濃度超標會自動啟動排風；
n 設備內部安裝火焰探測和滅火裝置，發生火災自動滅火；
n 可生成生產日志，所有工件的工藝參數均可記憶、導出、備查，也可實現遠程監控功能；
n 全自動設備、軟件提示手動操作均可，適合不同的客戶需求。
歡迎各位屆時蒞臨CAC 2023廣州先進陶瓷產業鏈展覽會，德中（天津）精密裝備有限公司——展位號：B625，現場了解更多相關信息。
